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       JYSC-1000離子濺射儀

      此款JYSC-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導電膜(如金膜)或材料鍍膜,儀器性能穩定,操作簡單方便。采用磁控冷態濺射,基本不升溫,最大限度保護樣品。

      主要特點:

      ²  顯示操作面為30°斜面,充分考慮操作的便捷和視覺體驗,方便觀察操作;

      ²  真空泵連接管路為金屬波紋管,美觀耐用;

      ²  微調閥調節靈敏準確,帶有刻度標識;

      ²  真空泵抽速快,噪音低,適合實驗室使用;

      ²  控制電路為控制板,工作穩定可靠;

      ²  顯示控制操作部分布局合理,位于同側,使用方便;

      ²  磁控冷態濺射,基本不升溫,最大限度保護樣品;

      技術參數:

      1. 樣品室空間:直徑120mm×高110mm 
      2. Au靶為標配,靶材尺寸:φ50mm×0.1mm
      3. 獨立真空控制電路設計,實現真空度和濺射電流,安全互鎖,可調最大電流40mA;
      4. 侵入式磁控低溫離子源,可快速更換靶材,環繞暗區護罩;
      5. 使用獨立計時控制器,精準計時,可調設置范圍:1-500秒,連續可調
      6. 自動真空泄氣功能,自動排氣,可通過數字定時器進行控制
      7. 進口真空泵,抽速8.5m3/h,噪聲不大于48dB,可置于抗震臺上,全金屬集成耦合系統
      8. 微型真空氣閥:高精度微量流量閥,精度±0.1Pa

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